简介： 

真空容器内，在高压1500V的作用下，残留的气体分子被电离，形成等离子体，阳离子在电场加速下轰击金属钯，使金属原子溅射到样品的表面，

 

形成导电膜。 

节省时间，又容易掌握金属喷涂厚度。钟罩内只需达低真空10-1Pa即可进入工作状态。喷涂金属厚度可根据所加电压和电流大小及喷涂时间决定。

 

如电压为1.2kV，电流为10mA，喷涂时间如为4min，喷涂的金属厚度约为20nm。因此，目前一般采用离子溅射法喷涂金属。使用仪器：离子溅射仪

 

（ion sputtering device）。 

 

离子溅射工作原理： 

离子溅射的工作原理，离子溅射仪尽管有不同的结构、型号，但其原理基本一致。现以Eiko IB-5型离子溅射仪为例: 在真空玻璃罩的顶部和底部

 

分别装有阴极和阳极，阴极的表面覆盖一层镀膜所用的金属（铂金、黄金等），又称作金属靶；样品放在下面的阳极上。仪器工作，当罩内真空度

 

达13.33 - 133.33 Pa (0.1- 1 mmHg)时，在两极间加以1000 - 3000 V 的直流电压。由于电场的作用，使真空罩内残留的气体分子被电离为阳离

 

子和电子，它们则分别飞向阴极和阳极，并不断地与其他气体分于相碰撞，表现为紫色的放电现象。此外，阳离子又可轰击阴极上的金属靶，使部

 

分金属原子被激发出来，这些金属原子在电场的加速作用下，可从不同的方向和角度飞向阳极，呈漫散射的方式覆盖在样品的表面，形成连续而均

 

匀的金属膜。在离子镀膜时，为减少样品的热损伤，必须采取必要的冷却措施，以防止样品在镀膜时造成变形。