了解蔡司双束电镜Crossbeam系列背后的技术
发表时间：2023-09-07 点击次数：1479
两种镜筒可供选择
和所有的蔡司场发射扫描电镜一样，蔡司双束电镜Crossbeam系列的场发射扫描电镜镜筒基于Gemini电子光学系统。目前两款镜筒：配置Crossbeam 350的Gemini I VP镜筒和配置Crossbeam 550的Gemini II镜筒可供您选择。
场发射扫描电镜专为高分辨率成像而设计，其性能取决于它的电子光学镜筒。Gemini技术支持所有的蔡司场发射扫描电镜和双束电镜：特别为各种样品，尤其是低电压下提供高分辨和高效且操作简单的探测。
Gemini电子光学系统主要有三个特征
- Gemini物镜是静电透镜和电磁透镜复合的电子光学结构，可大大提升镜筒的使用效果，面对富有挑战性的磁性样品同样有出色的成像效果。
- Gemini镜筒配置的电子束加减速技术，可保证电子束斑尺寸和高信噪比。
- Gemini镜筒内设置的探测器，可确保信号的高效收集，可同时收集二次电子（SE）和背散射电子（BSE）信号。
从您的双束电镜应用获益
- 扫描电镜电子束对准可长期保持稳定，改变探针电流和加速电压对系统几乎没有影响。
- 无磁场泄露的光学系统可实现大视野无畸变高分辨成像。
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样品倾斜转动时不影响电子光学系统的表现。
带Gemini I VP的蔡司Crossbeam 350
- 更广的样品和环境适用性
- 放气或者荷电样品原位实验的可行性
- 利用Inlens EsB探测器实现独特的材料成分衬度
带Gemini II的蔡司Crossbeam 550
- 基于双聚光镜系统，在低电压大束流下依然可以获得高分辨图像
- 通过高分辨成像及快速分析技术可在短时间内获得更多信息
- 使用Inlens SE和EsB探测器实现形貌及成分衬度同时成像
得益于高度灵敏的表面成像分析
在低着陆能量下获取高分辨图像已经成为SEM应用的标准。本质上因为：
- 光束敏感样品
- 非导电材料
- 获得真实样品表面信息，而不受样品更深层背景信号的干扰
Gemini独特的电子光学结构优化低电压和超低电压的分辨率并且增强了衬度。
其技术特点为使用高分辨率电子枪模式和可选的样品台减速技术（Tandem decel）。
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高分辨率电子枪模式通过将电子束最初能量色散降低30%，令电子束色差尽可能降低。
发现一种新的聚焦离子束（FIB）处理方式
镓离子FIB镜筒Ion-sculptor 可在不影响加工精度的情况下加快您的FIB工作进程，并让您受益于其对任何样品的低电压性能。
蔡司Crossbeam产品系列配有新一代的镓离子FIB镜筒——Ion-sculptor，具有可实现高通量的高电流以及用于高样品质量的出色低电压性能。
- 充分利用镓离子FIB镜筒Ion-sculptor在低电压下的出色性能来提升样品质量。
- 尽可能减少您样品的非晶化并使您在减薄后获得出色结果。
- 产品具备全面稳定性，确保您获得精准且可重复的结果。
- 通过快速探头电流交换加速您的FIB应用。
- 借助高达100 nA的电子束流可进行高通量实验。
- 实现小于3 nm的出色的FIB分辨率。
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Crossbeam产品系列配有用于长期实验的自动FIB发射恢复功能。
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