导 读
在当代迅速发展的科学技术中,科学家需要观察、分析和正确的解释在一个微米或亚微米范围内所发生的现象,扫面电镜是强有力的仪器,可用来观察和检测非均相有机材料、无机材料及在上述微米、亚微米局部范围内的表面特征。
在扫描电镜中,人们感兴趣的信号是二次电子和背散射电子,因为当电子束在样品表面扫描时,这些信号随表面形貌不同而发生变化。二次电子的发射局限于电子束轰击区附近的体积内,因而可获得相当高分辨率的图像。像的三维形态起因于扫描电镜的大景深和二次电子反差的阴影起伏效果。
扫描电镜的发展历史
扫描电镜是用于检验和分析固体微观结构特征的有用的仪器之一,可以获得高的图像分辨率。场发射电子枪是具有很高的亮度和很小的电子源。扫描电镜的图像反映了样品三维的形貌特征,通过电子和样品的互作用可以研究样品的结晶学、磁学和电学特性。
早在1938年,Von.Ardence将扫描线圈加到透射电子显微镜上,制成了一台扫描透射电子显微镜。一台检验厚样品的用二次电子成像的SEM是在1942年由Zworykim等制成,当时的分辨率仅达到1μm。直到1952年,C.W.Qatley和McMullan在剑桥制成了一台现在的SEM,分辨率达到500 Å。目前,扫描电镜的发展方向是两个:大型和超大型。
大型:采用场发射电子枪或LaB6电子枪,提高分辨率到25 Å。与电子探针的功能相结合,加上波长色散谱仪和能量色散谱仪,进行元素分析。
超小型:由于扫描电镜制样简单,操作方便,图像更有立体法感,层次细节更分明和丰富,清晰度高,个制造厂家自1975年后纷纷制造各种桌上型的扫描电镜,也称简易型。其特点是体积小,重量轻。
扫描电镜的基本原理
扫描电子显微镜是以能量为1—30kV间的电子束,以光栅状扫描方式照射到被分析试样的表面上,利用入射电子和试样表面物质相互作用所产生的二次电子和背散射电子成像,获得试样表面微观组织结构和形貌信息。配置波谱仪和能谱仪,利用所产生的X射线对试样进行定性和定量化学成分分析。
2.1会聚电子束的形成
电子光学系统是扫描电子显微镜的核心,可分为两部分:电子枪和透镜系统。电子枪能提供一定强度的电子束。来自热阴极或场发射阴极的电子被1—30kV的电压加速,由阳极孔射出,形成一交叉电子束。其交叉斑对于热阴极为10—50μm,对于场发射阴极为10—100nm。透镜系统由两个或三个电磁透镜组成,改变透镜的励磁电流可连续调节透镜的焦距。靠近样品的称为物镜,其余的透镜称为会聚镜。在透镜系统的作用下,能将电子枪形成的电子束交叉斑缩小,在样品的表面形成很小直径为3—10nm的电子束照射斑。这时的电子束流为10-10—10-12 Å,适合于观察二次电子图像。有时需要更大的电子束电流,例如,背散射电子图像的观察需要10-7—10-9 Å,这时照射斑将变大到0.1—1μm。
图1 扫描电镜光学系统及成像示意图
2.2电子束与样品的相互作用
当电子束轰击样品表面时,一部分的能量转变成热能,这可能造成样品的辐照损伤,还有部分的能量由于电子与样品原子的相互作用而发射出各种有用的信息。主要有:
(7)感生电动势:入射电子照射样品的pn结时产生的电动势(或电流)。
图2电子束与样品相互作用信号示意图
2.3成像原理
扫描电镜的成像过程与电视的摄像——显像过程很相似。来自扫描发生器的扫描信号分别送给电子光学系统的扫描线圈和显像管的扫描线圈,让电子束于显像管的阴极射束做同步扫描,是阴极射束在荧光屏上的照射点(称为像点)与电子束在样品上的照射点(称为物点)按时间顺序一一对应,样品上的物点在电子束作用下所产生的信号被检测器随时检出,经视频放大器放大后控制显像管阴极射束的强度使荧光屏上像点的亮度受试样上物点所产生的信号的大小的调制,从而得到与样品性质有关的图像。这是一种按时间顺序逐点成像的方式。
2.4分辨本领
分辨本领在扫描电子显微镜中的定义为:清楚的分辨样品上两个点或两个细节之间的距离的能力。实际上,分辨本领主要取决于电子束照射在样品上的束斑大小。普通钨丝电子枪的分辨本领在6.0—3.5nm之间,而场发射电子枪可达到1.0nm。
场发射扫描电镜基本构造
场发射扫描电子显微镜大致包括以下几个部分:
图3 扫描电镜结构示意图
场发射扫描电镜实验技术
4.1材料要求
场发射扫描电镜可对有机、无机、纳米材料进行微观形态研究,获得其表面形貌。
4.2主要功能及应用范围
广泛用于冶金、生物、建筑、机械等行业的材料形貌观察和分析
4.3主要附件
配备有X射线能谱分析仪,可以对B-U的元素进行定量和定性分析;
配备有电子背散射衍射(EBSD),可对材料进行取向、织构以及物相鉴定等分析研究。
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